Home
Editorial Board
Journal General Situation
Submission Guidance
Special Editorial
Excellent Thesis
Contact Us
中文版
Rapid Retrieval:
Article NO.
Chinese Title
English Title
Pin Yin Name
Real Name
Institution(In Chinese)
Institution(In English)
Chinese KeyWords
English KeyWords
Abstract(In Chinese)
Abstract(In English)
Fund Project(In Chinese)
引用本文:
【打印本页】
【下载PDF全文】
【
View/Add Comment
】
【EndNote】
【RefMan】
【BibTex】
←前一篇
|
后一篇→
过刊浏览
高级检索
本文已被：浏览
626
次 下载
1005
次
分享到：
微信
更多
字体:
加大+
|
默认
|
缩小-
聚焦离子束刻蚀多晶TiNi薄膜的表面形貌
谢东珠
1
上海师范大学数理信息学院,上海200234
摘要
:
报道了TiNi薄膜的聚焦离子束刻蚀特征及刻蚀后的表面形貌．测量结果表明薄膜的表面粗糙度随刻蚀深度呈非线性变化，当刻蚀深度等于0．1μm时，表面粗糙度为最小（5．26nm，刻蚀前为14．88nm）；刻蚀深度小于0．1μm时，表面粗糙度随刻蚀深度的增大而减小；当刻蚀深度大于0．1μm时表面粗糙度随刻蚀深度增大而增大，其原因是刻蚀深度大于0．1μm后表面出现了清晰的周期性条纹结构．此外，表面粗糙度随聚焦离子束流的增大而减小，当离子束流为2．5nA时，表面粗糙度从刻蚀前的14．88nm减小到4．67nm
关键词
:
形状记忆合金
离子束刻蚀
表面形貌
DOI：
分类号
:
基金项目:
Abstract
:
Key words
:
Editorial BoardJournal General SituationSubmission GuidanceSpecial EditorialExcellent ThesisContact Us中文版
Editorial BoardJournal General SituationSubmission GuidanceSpecial EditorialExcellent ThesisContact Us中文版