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PECVD氮化硅薄膜的制备和研究
李琼,陈永兴
作者
单位
李琼,陈永兴
摘要
:
设计制造了一套PECVD低温淀积氮化硅的小型设备。并将生成膜用于半导体器件的钝化。本文介绍了这套设备的原理和设计思想,研究了工艺参数对生成膜的影响,测定了生成膜的各种物理化学性能。我们认为这是一种值得在我国推广的钝化工艺。
关键词
:
无
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Key words
:
